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光解氧化除臭設(shè)備采用微波場激發(fā)紫外線燈,產(chǎn)生高強紫外線,有害煙氣處理器,其中154nm-185nm波長在系列光譜中使占比例高達14%,光氧分解機,紫外線劑量大于65mw/cm2,VOCs光氧分解機,光子能量大于880kJ/mol,是當(dāng)前工業(yè)UV/O3紫外燈中劑量和能量最1大的紫外線,能迅速裂解硫1化氫(H-S鍵能為368kJ/mol),氨氣(H-N鍵能為393kJ/mol)等鍵能小于880kJ/mol的分子鍵;光解時間大于1s,有害異味光氧分解機,紫外線同樣能裂解自然界中相對比較穩(wěn)定的氮氮叁鍵(鍵能941.69kJ/mol )。紫外線光解氧氣產(chǎn)生臭氧(活1氧O3),臭氧能快速氧化金屬性較強的污染物,臭氧量可根據(jù)污染物的濃度以及后續(xù)反應(yīng)時間設(shè)定。



注冊資金:2000萬元整
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